Reaktives Prozessgas-Überwachungssystem – Qulee RGM2 Serie
RGM2-201F
Der Qulee RGM2-201 F Reaktivprozessgasmonitor ist ein Prozessmonitor mit einem Differentialabsaugsystem, das reaktive Gase wie Ätz-, CVD- und ALD-Geräte der Qulee-Serie unterstützt. Dank der einzigartigen Struktur der Ionenquelle und des Abgassystems von ULVAC verfügt es über eine ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit für reaktive Gase und kann über einen langen Zeitraum hinweg stabil gemessen werden.
- Das Abluftsystem und das Steuersystem sind integriert, um eine vertikale Positionierung zu ermöglichen, und die weltweit kleinste Stellfläche ermöglicht die Überwachung reaktiver Gase auch in Produktionslinien mit begrenztem Platzangebot.
- Die Geschwindigkeit des Austauschs von Filament-Kits während der Wartung wurde drastisch verbessert, und 120 Minuten Arbeit von 2 Arbeitern können in 10 Minuten von 1 Person erledigt werden.
- Das Doppelfilament ermöglicht eine Gasanalyse, ohne dass die Produktionslinie angehalten werden muss, wenn das erste Filament bricht.
- Verwendet ein Touchpanel zur Statuskontrolle in Echtzeit.
- Die Bedienung vom Start bis zur Messung ist nur auf dem Computer vollständig.
- Die Verwendung der einzigartigen geschlossenen Ionenquelle unseres Unternehmens mit Magnet ermöglicht lange und stabile Messungen auch bei reaktiven Prozessen.
- Die hochempfindliche Ionisationskammer mit geringer Gasdissoziation ermöglicht eine hochempfindliche Gasanalyse mit nur einem Faraday-Becher.
- Kompaktes Kanalsteuerventil, das Zersetzung und Adsorption aufgrund von thermischen Reaktionen verhindert.
- Verringert den Abstand zwischen der Prozesskammer und der Ionenquelle und ermöglicht so eine schnelle Reaktion auf die Zersetzung.
- Verbessert die Funktionen der vorbeugenden Wartung
Vorbeugende Wartung von Ionenquellen und Sekundärelektronenvervielfacherröhren
Installation der Tresabilitätsfunktion eines Analyseröhrchens (Patent Nr. 5016031) - Die Standardsoftware ist mit Windows 8/10/11 kompatibel.
Besondere Merkmale / Weitere Anwendungen
- In CVD/ALD/Etching-Ausrüstung
- Überwachung von reaktiven Gasen während des Prozesses
- Endpunktüberwachung des Ätzreinigungsprozesses
- Messung von Restgas
