Thermisches Verarbeitungssystem Horizontalofen Serie
Hochzuverlässiges Wärmebehandlungssystem mit mehr als dreißig Jahren Einsatzreife, das für Wärmebehandlungen wie Oxidation, Diffusion und Annealing von 200mm Siliziumwafern verwendet werden kann.
- Horizontaler Ofen, der als Oxidationsofen, Diffusionsofen und für Annealing verwendet wird
- Je nach Verarbeitungsvolumen können Sie zwischen 3 verschiedenen Modellen wählen.
- Führen Sie verschiedene Prozesse mit einem Gerät aus.
Die Konfiguration mit drei oder vier Röhren spart Platz. - Die 5 Heizzonen sind jeweils unabhängig voneinander regelbar, so dass eine hervorragende Temperaturgleichmäßigkeit und -stabilität gewährleistet werden kann.
- Das originäre Steuerungssystem sorgt für eine einfache und zuverlässige Bedienung.
- Bei den Modellen H83-125 und H84-125 ist das Beladen auf der Oberseite des Rohrs einfach, da sie serienmäßig mit einem Hebemechanismus ausgestattet sind.
- Pyrogenes Nassoxid, Nassoxid, Trockenoxid, Phosphor- und Bordotierung mit POCl3 oder BBr3 und Glühen.
Besondere Merkmale / Weitere Anwendungen
- Thermische Oxidation, Diffusion und Ausglühen von Silizium-Wafern.
| Modell | H83-50 | H83-125 | H84-125 |
| Prozess | Oxidation, Diffusion, Anneal | ||
| Wafer Größe | ～200mm (8 Zoll) | ||
| Anzahl der Röhren | 3 | 3 | 4 |
| Produktlast | 50 | 125 | 125 |
| Temp. Kontrollzone | 5 | ||
| Material des Heizgeräts | Fe-Cr-Al | ||
| Operation Temp（℃） | 600～1200 | ||
| Einweichzone（mm） | 370 | 800 | 800 |
| Temp. Einheitlichkeit（℃） | ±1.0 | ||
