Plasma-Ätzsystem mit hoher Dichte NE-550

Name: ULVAC GmbH
Address: Kirchheim bei München, München, 85551, DE
Telephone: +49-89-96 0909 0

NE550H ist ein Mehrzweck-Plasmaätzsystem mit hoher Dichte, speziell für F&E-Testeinrichtungen wie Universitäten und Regierungsbehörden.

Ausgestattet mit einer Niederdruck-, Niederelektronen-Temperatur- und Hochdichte-Plasmaquelle.
Unterstützt ein breites Spektrum an Prozesskontrolle vom Ionenätzen bis zum Radikalätzen.
Plasmadichte und Gleichmäßigkeit können durch die Optimierung des Magnetfeldes gesteuert werden.
Die einfache Konfiguration macht die Wartung leicht.
Niedriger Druck, hohe Plasmadichte, gute Gleichmäßigkeit – ISM (Inductively Super Magnetron) Plasmaquelle* ULVAC Patent
Gute Wiederholbarkeit und Stabilität – STAR Elektrode* ULVAC Patent
Präzise und stabile EPD – Optische Emissions-EPD (optional), Laser-Interferenz-EPD (optional)
Präzise Steuerung der Wafertemperatur – ESC mit He-Kühlung, mechanischer Chuck
Einfache Wartung – Einfacher Wartungsmechanismus

III-V-Materialien: Selektives Ätzen – GaAs, AlGaAs, InGaAs, InGaP, InP
Isolationsschichten: Hochgeschwindigkeits- oder beschädigungsfreies Ätzen – SiO2, SiN, Low-K Materialien, GaAs VIA, InP VIA, SiC VIA
Organische Stoffe: Polyimid, BCB
Metalle und Keramiken: W, WSi, TiW, Mo, PZT, STO, BST, SBT, Ir, IrO2, Au, Pt, Ti, TiN, Ta Optische Geräte (Laserdioden, LED, etc..)
Nicht-selektives Ätzen – GaAs, AlGaAs, AlGaInP, InAlAs, InP, GaN, AlGaN, InGaN, AlN
ITO, Saphir Andere Geräte (MEMS, Stamper für DVD, etc…)
Si, SiC, Glas, Quarz, Saphir, C, diamantartiger Kohlenstoff, Al, Cr, Mo

	Klausnerring 4 85551 Kirchheim b. München Germany
	+49-89-96 0909 0
	inquiries@ulvac.de
	www.ulvac.eu