Trockenätzgerät APIOS NE-950EX
Unsere LED-Massenproduktionsanlage NE-950EX ist mit zwei patentierten Erfindungen ausgestattet und bietet neben einer hohen Produktionsleistung ein hohes Maß an Wartungsfreundlichkeit, Stabilität und Zuverlässigkeit.
- Höherer Durchsatz（140%im Vergleich zu einem herkömmlichen System)
- Verfügbarkeit der Batch-Prozessierung für 3 Wafer mit 6 Zoll Durchmesser.
- Verfügbarkeit der Batch-Prozessierung für 7 Wafer mit 4 Zoll Durchmesser.
- Verfügbarkeit der Batch-Prozessierung für 12 Wafer mit 3 Zoll Durchmesser.
- Verfügbarkeit der Batch-Prozessierung für 29 Wafer mit 2 Zoll Durchmesser.
- ICP mit ISM-Magnetfeld *1), eine Plasmaquelle hoher Dichte mit mehr als 600 Lieferungen auf dem Markt für Verbindungshalbleiter
- *1:ULVAC Patent Nr.3188353
- Star-Elektrode*2) mit Selbstreinigungsfunktion für Materialablagerungen aus dem RF-Fenster
- *2:ULVAC Patent Nr.3429391
- Durch die präventive Auslegung der Wiederbeladung wird eine hohe Wartungsfreundlichkeit, Stabilität und Zuverlässigkeit erreicht.
BESONDERE MERKMALE / WEITERE ANWENDUNGEN
- Verfügbarkeit der Trockenätztechnologie für verschiedene Prozessanwendungen (GaN, Saphir, Metall, ITO, SiC, AlN, ZnO, 4-Elemente-Verbindungshalbleitermaterialien, usw.)
- Verschiedene Optionen verfügbar
