Ein Batch-System zur Entfernung von Native Oxide RISE-300

Name: ULVAC GmbH
Address: Kirchheim bei München, München, 85551, DE
Telephone: +49-89-96 0909 0

Chemische Trockenreinigungsanlage für die Entfernung von nativen Oxiden in schmalen und tiefen Kontaktmustern von modernen Halbleitern.

Beschädigungsfrei (Fernplasma und Niedertemperaturverfahren)
Hoher Durchsatz und niedrige CoO
Verarbeitung in Chargen von fünfzig Wafern
Hervorragende Gleichmäßigkeit der Ätzung (5% oder weniger pro Charge)
Einfache Wartung (kein seitlicher Wartungszugang erforderlich)
Geringe Stellfläche im Vergleich zu Cluster-Geräten
50% geringerer selbstausrichtender Kontaktwiderstand im Vergleich zum derzeitigen Nassverfahren
Der kleinste Fußabdruck

	Klausnerring 4 85551 Kirchheim b. München Germany
	+49-89-96 0909 0
	inquiries@ulvac.de
	www.ulvac.eu